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Samsung já tem seu processo de fabricação pronto em 8 nm

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Anonim

A Samsung é uma das líderes mundiais na fabricação de chips de silício e não tem intenção de jogar a toalha, a gigante sul-coreana já está pronta para um novo processo de fabricação mais refinado para melhorar o desempenho de seus chips e de terceiros que recorrem a sua fundição.

Samsung já tem os 8 nm prontos

A Samsung revelou oficialmente que seu novo processo de fabricação de 8nm LPP (Low Power Plus) está pronto para a produção dos primeiros chips. Esse novo processo oferece até 10% de aumento de desempenho em relação ao atual processo de 10nm da empresa e redução de até 10% na área de transistores.

Esse nó é um refinamento do nó de produção de 10nm existente da Samsung, que torna esse processo realmente 10nm +, mas uma mudança de nome é aplicada ao marketing, pois lembramos que não há um padrão quando se trata de Meça o tamanho dos transistores para que cada fundição possa expressá-la de maneira diferente. Isso significa que os processos de fabricação de duas empresas podem ser muito diferentes, apesar de aparentemente serem o mesmo nm.

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As vantagens desse novo nó de processo são o fato de ele se basear na tecnologia existente da Samsung, permitindo que a Samsung acelere rapidamente a produção de 8nm, adaptando sua tecnologia de 10nm existente. A Samsung também conseguiu passar a qualificação com esse novo nó três meses antes do previsto, permitindo à empresa produzir chips funcionais de 8nm antes do previsto.

8nm será o nó final da Samsung antes de sua mudança para o EUV (Extreme Ultra Violet) com seu nó de fabricação de 7nm, inaugurando uma nova era para a Lei de Moore, permitindo que os fabricantes quebrem algumas das limitações que foram frustrando o progresso da indústria.

O 7LPP será a primeira tecnologia de processo de semicondutores a usar uma solução de litografia EUV. O esforço colaborativo da Samsung e da ASML desenvolveu 250W de potência máxima do EUV, que é o marco mais importante para a inserção do EUV na produção de alto volume. A implantação da litografia EUV quebrará as barreiras da escala da lei de Moore, abrindo caminho para gerações de tecnologia de semicondutores de nanômetro único.

Fonte Overclock3d

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