7nm de intel serão equivalentes a 5nm de tsmc, um ano depois
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O CEO da Intel, Bob Swan, disse que seu processo de 7nm deve corresponder ao processo de 5nm da TSMC. Ele também observou que o processo de 5nm da Intel também deve coincidir com o processo de 3nm do TSMC.
Nó de 7nm da Intel chegará em 2021
No entanto, o que Swan não mencionou é que a Intel não está mais na liderança em termos de tecnologia de processos e que seu processo de 7nm deve chegar um ano depois, em 2021, em comparação aos 5nm da TSMC., que produzirá chips de dispositivo para o segundo semestre de 2020.
Quando a Intel anunciou o processo de 22nm Tri-gate (FinFET), estava mais do que uma geração à frente em comparação com a TSMC e outros concorrentes como a AMD. Por um lado, ele estava em um processo menor de 22 nm em comparação com outros que estavam migrando para nós de processo de 28 nm / 32 nm. E segundo, a mudança para o FinFET sozinha deu a ele seu próprio impulso geracional em desempenho e eficiência. A liderança de processos da Intel foi incontestável por anos.
A única exceção foi em chips móveis, onde seu chip FinFET Atom de 22nm mal conseguia combinar com os mais recentes chips de 28nm de última geração e com um custo mais alto. É por isso que a Intel finalmente tentou licenciar o projeto Atom para empresas chinesas de semicondutores sem fábrica para construir seus próprios chips "Atom" mais baratos no processo de 28 nm da TSMC. Uma estratégia que não deu certo.
A Intel então mudou para 14nm. A empresa sofreu alguns atrasos com os chips Broadwell, que foram os primeiros a usar o processo de 14nm. A Intel também acabou substituindo rapidamente a geração Broadwell pelo Skylake. Isso aumentou a densidade dos transistores em 2, 4 vezes.
No entanto, em vez de levar essa lição a sério, a Intel tentou aumentar a densidade ainda mais agressivamente com o processo de 10 nm, em 2, 7 vezes. Após anos e anos de atrasos, a empresa admitiu recentemente que o objetivo era ambicioso demais para a empresa.
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É por isso que, ao mudar para 7nm EUV, a Intel reduzirá o aumento de densidade para 2, 0 vezes. Mudar para um processo de litografia ultravioleta extrema (EUV) já é bastante difícil. É também a primeira tentativa da Intel de implementar o EUV, seguindo os passos da Samsung e TSMC.
Quando os nós de 5 nm da TSMC começaram a fabricar em meados de 2020, os primeiros chips de 7 nm da Intel chegarão em 2021. Vamos mantê-lo informado.
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